PCB光致成像工藝介紹

什么是印刷電路板照相成像過(guò)程？許多人不太了解這個(gè)過(guò)程。這里有一些印刷電路板復(fù)制工程師，他們會(huì)給你簡(jiǎn)單介紹一下印刷電路板的光致成像過(guò)程。印刷電路板光成像工藝是將涂覆在印刷電路板基板上的光致抗蝕劑曝光，以改變其硬度、附著力、溶解性和物理性質(zhì)，并在顯影后形成圖像的方法。
在印刷電路板制造中，用于光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)印的光刻膠主要有兩種類(lèi)型，一種是光刻膠干膜(簡(jiǎn)稱干膜)，其商品是光成像光敏油墨；另一種是液體光刻膠，包括普通液體光刻膠和電沉積液體光刻膠。增感光致抗蝕劑是一種水基乳液。光刻膠是現(xiàn)代印刷電路板工業(yè)的基石。該光刻膠干膜具有工藝流程簡(jiǎn)單、清潔度要求低、易于操作的特點(diǎn)。自成立以來(lái)，一直受到印刷電路板企業(yè)的歡迎。經(jīng)過(guò)幾次改進(jìn)和發(fā)展，它現(xiàn)在已經(jīng)在印刷電路板制造的光成像過(guò)程中占據(jù)了很大的份額，并且已經(jīng)成為主流產(chǎn)品。在光致抗蝕劑干膜出現(xiàn)之前，液態(tài)光致抗蝕劑是當(dāng)時(shí)成像技術(shù)的重要材料。由于應(yīng)用中厚度不易控制，操作速度慢，工藝環(huán)境的清潔和處理造成的缺陷板面限制了其使用。膠片問(wèn)世后，一度被干膜工藝所取代。然而，近年來(lái)，隨著電子產(chǎn)品向薄、小、密方向發(fā)展，印刷電路板企業(yè)面臨著降低價(jià)格的壓力，新的高分辨率液體光刻膠的出現(xiàn)，以及連續(xù)大規(guī)模生產(chǎn)液體光刻膠涂布設(shè)備的能力，使其在印刷電路板光成像領(lǐng)域再次發(fā)展。