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印制電路板制造業(yè)越來越需要高縱橫比、小孔印制電路板的電鍍工藝。它是推動高層數(shù)多層印制電路板制造技術發(fā)展的動力。因為孔鍍層的可靠性,對印制電路板的運用起到了關鍵性的作用。如何確保高縱橫比深孔電鍍問題,是所有印制電路工作者的科技任務,是必須面臨的最重要問題。為此,很多研究部門著手進行有計劃的研制和開發(fā)。從當前的科技資料報導推芨的方法很多,其中有脈沖電鍍技術、化學氣相沉積技術、溶液沖擊電鍍技術、全化學鍍銅技術和改進型(高酸低銅)的空氣攪拌技術等。現(xiàn)將這部分技術分別簡介如下:
脈沖電鍍工藝技術
脈沖電鍍技術,早已運用于電鑄成型工藝中,是比較成熟的技術。但運用在高縱橫比小孔電鍍還必須進行大量的工藝試驗。因脈沖電源不同于一般的直流電源,它是通過一個開關元件使整流器以US的速度開/關,向陰極提供脈沖信號,當整流器處于關的狀態(tài)時,它比直流電更有效地向孔內(nèi)的邊界層補充銅離子,從而使高縱橫比的印制電路板沉積層更加均勻。目前已研制的脈沖整流器運用在全封閉式水平電鍍生產(chǎn)流水線上,使用的效果取得極為明顯的經(jīng)濟和技術成效。
采用了“定時反脈沖”按照時間使電流在供電方式上忽而正鍍忽而反鍍(即陽極溶解)按照時間比例交替進行,使電鍍銅的沉積很難在常規(guī)供電方式取得相應的銅層厚度而得以解決。當陰極上的印制電路板處于反電流時,就可以將孔口高電流密度區(qū)銅層迅速得到迅速的溶解,由于添加劑的作用,對低電流密度區(qū)影響卻很微,因而將逐漸使得孔內(nèi)銅層厚度與板面銅的厚度趨向于均等。
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