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華虹半導體第三代90納米嵌入式閃存工藝平臺 成功量產(chǎn)

2020-12-09 09:21:33
—— 華虹半導體有限公司(“華虹Semiconductor”或“Company”)作為全球領先的具有特色工藝的純晶圓代工企業(yè),宣布其第三代90 nm嵌入式flash  (90nm  eFlash)工藝平臺已成功實現(xiàn)量產(chǎn)。
華虹半導體一直深入?yún)⑴c嵌入式非易失性存儲器技術領域。通過不斷的技術創(chuàng)新,第三代90納米嵌入式閃存技術平臺的閃存單元尺寸比第二代技術縮小了近40%,創(chuàng)下了全球晶圓代工廠90納米工藝節(jié)點嵌入式閃存技術最小尺寸的新紀錄。Flash  IP具有更明顯的面積優(yōu)勢,進一步縮小了整體芯片面積,從而在單個晶圓上獲得更多的裸芯片。同時,掩膜層的數(shù)量進一步減少,有效縮短了薄膜流延的周期。可靠性指數(shù)繼續(xù)保持高水平,達到100,000次擦除和25年的數(shù)據(jù)保留容量。近年來,華虹半導體在90納米工藝節(jié)點成功推出三代閃存技術平臺,在保持技術優(yōu)勢的同時,不斷尋求性價比更高的解決方案。第三代工藝平臺的大規(guī)模穩(wěn)定量產(chǎn),為電信卡、Ukey卡、交通卡等智能卡和安全芯片產(chǎn)品,微控制器(MCU)等多元化產(chǎn)品提供持續(xù)穩(wěn)定的支持和解決方案。
華虹半導體執(zhí)行副總裁孔蔚然,博士表示:“華虹Semiconductor是嵌入式非易失性存儲器技術的領導者,未來面對高密度智能卡和高端微控制器市場,將繼續(xù)專注于R&D和200mm差異化技術的創(chuàng)新。同時,我們不斷致力于在功耗和面積方面提供顯著的優(yōu)化,將現(xiàn)有的200mm到300mm的技術優(yōu)勢延伸,更好地服務于國內(nèi)外半導體芯片設計公司,滿足市場需求。”

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