放眼全球制造業(yè)領(lǐng)域，光刻機，荷蘭ASML是第一巨頭。ASML以超過10億元的價格出售一輛EUV 光刻機，但即便如此，臺積電和三星仍將爭相購買。
它不僅在市場份額上遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過其競爭對手，而且ASML對其技術(shù)優(yōu)勢也很有信心。ASML曾威脅說，即使EUV光刻機的畫公之于眾，也沒有哪個企業(yè)能夠自己制作。
這不是ASML的自夸，因為這是真的。EUV 光刻機集成了許多領(lǐng)域的尖端技術(shù)，其組件來自各個行業(yè)的頂級供應(yīng)商，因此組裝難度可想而知。
正因為如此，前巨人佳能和尼康一直愿意留在后面；中國領(lǐng)先的光刻機，制造企業(yè)上海微電子只在28納米處征服了光刻機。
然而，這并不意味著中國愿意將核心技術(shù)掌握在外國公司手中。
中國有望解決光刻機“卡脖子”問題
因此，2020年下半年，中科院公開宣布，將聚集全醫(yī)院的力量，克服光刻機的制造問題，幫助中國企業(yè)擺脫困境。
到目前為止，盡管沒有來自中科院，的好消息，清華大學(xué)已經(jīng)公布了最新的研究結(jié)果。據(jù)了解，這一成果有望解決光刻機問題，使國產(chǎn)芯片在未來大有可為。
2月25日，清華大學(xué)，工程物理系教授唐傳祥，在國際權(quán)威期刊《Nature》上發(fā)表了關(guān)于論文新型粒子加速器光源“穩(wěn)微多束”的研究。
同時，清華大學(xué)官網(wǎng)也透露了好消息。
筆者了解到，這與一種全新的光刻機光源技術(shù)有關(guān)。
眾所周知，目前世界上只有美國和德國掌握了極紫外光源解決方案，ASML采用美國的解決方案。
但無論是美國還是德國的極紫外光源解決方案，都有兩大問題：穩(wěn)定性和壽命。這是因為方案需要不斷激發(fā)滴錫滴，錫是易揮發(fā)的。因此，提高光源的功率相對困難。
另一方面，清華大學(xué)和他的團(tuán)隊研究的方案是用可控電子束輻射極紫外光，而不是激發(fā)發(fā)光。
與美國的方案相比，清華大學(xué)的成功研究在理論上具有更高的穩(wěn)定性，并且更容易增加光源的功率。
如果這種解決方案最終能夠落地并商業(yè)化，那么中國制造的光刻機，就有可能在彎道超車，不再受美國限制。
但是在實現(xiàn)的過程中，可以說是極其困難和危險的。我相信，一旦國產(chǎn)光刻機實現(xiàn)自主研發(fā)，未來國產(chǎn)芯片的可能性將是無限的。但在此之前，中國相關(guān)行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)依然嚴(yán)峻。
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2021-03-03 17:55:00
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